微纳与加工测试中心 （通讯员 许恩泽）2026 年 7 月 4 日，由南开大学物理科学学院、泰达应用物理研究院主办的微纳光子学与先进制造技术研讨会，于南开大学伯苓楼 A205 会议室成功召开。本次会议依托学校新建微纳加工与测试中心公共技术平台，汇聚国内高校、科研院所及行业企业专家，围绕微纳光子前沿、微纳加工工艺、光电芯片、先进制造等关键方向开展学术研讨，打通基础研究、工艺制造与产业应用的交流渠道，助力微纳光电子领域协同创新与技术攻关。

  微纳加工技术与光子学深度交叉融合，是下一代光电子技术变革的重要驱动力。微纳光子结构在光通信、高性能传感、超分辨成像、能源转换、量子信息处理、生物医学检测等领域展现巨大潜力；而先进制造技术为微纳光子器件提供高精度、可重复、大面积制备能力，推动研究从原理验证迈向系统集成与实用化。当前，集成光电子芯片、量子芯片、极紫外光刻、毫米波器件等方向仍面临诸多工艺与材料瓶颈。本次研讨会旨在聚焦材料、器件、工艺、系统全链条，为微纳光子与先进制造领域探寻发展新方向与合作新机遇。

上午 8:30，研讨会正式拉开帷幕，举行简短开幕式、嘉宾致辞与嘉宾介绍。来自山东大学、国防科技大学、南京大学、天津大学、清华大学、中科院物理所、南开大学，以及青禾晶元、华海清科、电科蓝天等高校与产业单位的十余位专家带来特邀报告，报告覆盖新型光电材料、光量子芯片、超构光学成像、异质键合集成、CMP 超精密装备、光频梳精密测量、化合物半导体器件、EUV 光刻胶等前沿主题，兼顾基础科学创新、关键工艺开发与产业落地需求。

胡卉教授介绍薄膜铌酸锂材料特性及其在大规模光子集成器件中的应用前景；徐平教授分享铌酸锂、硅基光量子芯片工艺开发与量子算法片上实现；田芳馨总监讲解超精密 CMP 装备控制系统，展示其在微纳光学元件原子级表面加工的应用；王漱明教授围绕超构表面多维光学成像，介绍宽带消色差超构透镜、光谱‑深度同步探测等创新方案；刘福超副总经理从产业视角阐述先进键合技术原理，分享光电融合异质集成整线解决方案；罗景山教授汇报光电催化在燃料与绿色化学品合成方向的最新研究成果。

下午报告环节，张林教授介绍掺铒氧化铝片上放大器与窄线宽激光器研制进展；黄邵龙围绕 CMP 抛光液在集成电路制造中的技术应用展开分享；鲍成英副教授介绍微腔光梳原理以及多外差光梳绝对测距技术；刘如彬研究员阐述 III‑V 族化合物半导体在空间能源、光电器件领域的技术进展；潘如豪副研究员展示双层光学超表面高精度纳米加工技术与多维光调控特性；张磊教授介绍面向亚纳米制程的团簇 EUV 光刻胶材料设计与高分辨图形化研究。会议设置茶歇、交流研讨环节，参会师生、科研与产业代表围绕微纳加工工艺、器件性能瓶颈、公共平台开放共享、产学研联合攻关等议题充分交流探讨。

 本次会议也是南开大学微纳加工与测试中心的一次学术交流实践。该中心面向集成光电子芯片、量子芯片、微纳尺度表征、极紫外光刻工艺、微波毫米波芯片五大方向，搭建起薄膜制备、高精度曝光、多体系刻蚀、器件表征、芯片封装完整的设备链条，面向校内外高校、科研机构、光电企业开放共享，承担科研攻关、人才培养、成果转化多重职能。

研讨会的举办充分发挥南开大学物理学科、泰达应用物理研究院的学科与平台优势，搭建起 “高校‑科研院所‑产业” 的对话桥梁，促进微纳光子学与先进制造跨学科思想碰撞，为后续项目合作、平台联合开发、技术成果转化打下良好基础，助力我国微纳光电子领域高质量创新发展。

编辑 郑大怀

审核 任梦昕