【功能简介】

电子束蒸发镀膜沉积系统主要由镀膜工艺腔、真空泵系统、真空测量系统、电子束蒸发系统和控制系统等部分组成。在真空状态下，热电子由灯丝发射后，被阳极加速，获得动能轰击处于阳极的蒸发材料，使蒸发材料气化，从而实现蒸发镀膜。在基片附近安装有膜厚控制仪，控制仪所监测的膜层沉积速率可反馈给电子枪，通过调节电子枪功率来获得所需的膜层沉积速率。该设备可用于镀制各种金属和非金属的单层膜和多层膜，主要应用于纳米器件、有机光电器件金属电极的制备，以及用于生长纳米材料的各类薄膜层的制备。

【参数配置】

型号：Kurt J. Lesker PVD 75

1.蒸发类型：电子束蒸发、热蒸发

2.电子枪功率：不小于10 kW

3.电子枪加速电压：4 -10 kV 可调

4.镀膜均匀性：不大于+/-5% （6英寸）

5.样品尺寸：最大6英寸

6.工作压力：10-3 torr – 10-8 torr 

7.材料种类：Cr、Ni、Al、Au、Pt

【存放地点】

微纳加工与测试中心  伯苓楼A110

联系人：郑老师 18526548067