【功能简介】

 原子层沉积（ALD）通过脉冲交替通入气相前驱体与反应物，在基底表面反应成膜，适配复杂结构基材，所得薄膜致密无针孔、保形性与均匀性出色。

【参数配置】

型号：Exploiter E200sp，深圳原速光电

1.样品直径：最大8英寸

2.膜厚结果不均匀性优于2%

3.工艺温度：温度范围：RT~500°C 

4.反应物路数：支持2路反应物气路

5.标准载气：N₂

6.等离子体系统：支持4路等离子体气体

7.射频功率：0~1000W

8.本底真空度：<5x10-3 Torr

9.前驱体种类：氧化铝、氧化哈、二氧化钛、氧化锆

【存放地点】

微纳加工与测试中心  伯苓楼C107

联系人：郑老师 18526548067