【功能简介】

 电感耦合等离子体刻蚀机是半导体材料、二维材料、金属材料以及光电材料微纳加工的重要工具。其工作原理是通过高频耦合线圈将反应气体电离为等离子体，并利用下电极偏压将等离子体牵引至材料表面，进行化学和物理刻蚀。被刻蚀的材料转化为气态挥发物，并由泵组移除，从而实现图形化的目的。该系统能够在低真空环境下，按照预先设计的图形掩膜进行纳米尺度的加工，已成为微纳领域不可或缺的加工手段

【参数配置】

型号：Oxford PlasmaPro100 Cobra 

1.射频源功率：600W, 13.56MHz

2.ICP功率: 3kW, 13.56MHz

3.晶圆尺寸：最大可达200mm

4.样品自动传输至工艺腔室

5.温度范围：从-150°C到400°C

6.采用He背面冷却的晶圆夹持

【存放地点】

微纳加工与测试中心  伯苓楼A109

联系人：郑老师 18526548067